Собянин: В Москве создано важнейшее оборудование для производства микросхем
Компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» разработала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. В мире всего несколько государств способны создавать подобное оборудование, и теперь среди них — Россия.